Com o desenvolvimento da ciência e tecnologia, o método de fabricação da placa guia de luz foi gradualmente aprimorado, o que é diferente do tipo de impressão inicial, e nós o chamamos de "tipo sem impressão".
fotolitografia
A tecnologia de litografia é revestir uma camada de fotorresistente resistente à corrosão em um wafer de silício plano e, em seguida, deixar passar uma luz forte através do fotorresistente e expor seletivamente no fotorresistente de acordo com as informações do padrão da camada específica gerada; o wafer de silício vai Um filme com uma estrutura micropadronizada é deixado para trás. A rugosidade da superfície da placa guia de luz preparada pelo método de fotolitografia é baixa e a perda de energia da luz é relativamente grande.
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